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CN
產品技術
隧穿氧化/多晶硅沉積
祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統
祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統利用微導納米原創設計的工業級等離子體增強原子層沉積(PEALD)技術,以及行業創新的PEALD/PECVD同管新技術,實現了超高產能的批量型PEALD鍍膜,是ALD領域量產化技術又一次突破,專為接觸鈍化技術(TOPCon、HPBC、POLO、SHJ和TBC)量身定制,為后PERC高效電池技術提供可靠的量產解決方案,引領光伏產業化高效電池制造。
銷售郵箱
產品特點
用于 PERC, TOPCon, XBC等高效電池技術路線的應用
1
優異的溫度控制和等離子控制系統,可兼容PECVD工藝,搭配超高載片量的石墨舟設計,在確保設備產能的同時大幅提升電池轉換效率
2
精準制備薄膜厚度小于2nm的隧穿氧化硅,同時兼容多種材料與工藝,包括 SiO?/poly-Si(n+), poly-Si(p+), Al?O?/SiNx 等
3
優異的薄膜厚度均勻性
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提供 TOPCon 量產工藝 PEALD/ PECVD 路線集成技術,鈍化接觸技術所需多晶硅原位摻雜濃度(1E20~1E21)可調
5
針對新型PE-TOPCon電池技術核心的隧穿氧化層與多晶硅薄膜研發了可鍍導電膜、原位摻雜與無爆膜的管式PEALD/PECVD ToxPoly同管集成技術,研究成果被廣泛轉載并成功完成產業化
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