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CN
產品技術
硼擴散
羲和?系列高溫低壓系統
羲和系列高溫低壓系統采用原創設計的高溫熱場控制技術，真正實現了兼容磷、硼兩種擴散工藝，其中硼擴散工藝又兼容BBr?和BCl?兩種工藝源。獨創的冷卻技術可提升設備與零件的使用壽命，同時縮短了工藝時間，為PERC+和TOPCon等下一代量產高效電池的提效降本，提供了全套的主機及先進的工藝解決方案。此外，羲和系統也提供退火，氧化和低壓化學氣相沉積（LPCVD）功能。
銷售郵箱
產品特點
適用于PERC, TOPCon, XBC等高效電池技術路線的應用
1
超高載片量，182尺寸硅片載片量為2880片/管，兼容182mm到230mm尺寸硅片
2
設備多功能設計，可兼容磷摻雜、硼摻雜、退火或是LPCVD多晶硅功能
3
創新放片方式，改善高溫工藝良率問題與單管裝片量
4