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產品技術
產業化應用中心
iOptomic 系列原子層沉積系統
iOptomic系列原子層沉積系統采用微導納米設計的等離子源，反應腔設計，結合先進的ALD鍍膜沉積技術，可為晶圓、玻璃、塑膠等各種異形的基底表面沉積保形和均勻的薄膜，搭配專業的膜系設計來實現不同產品的光學性能。該系統具備載物臺旋轉、兼容靜/動態、等離子體等功能，適用于各類光學攝像頭，AR/VR光學透鏡及精密光學元器件的工業化批量生產。
銷售郵箱
iacsale@leadmicro.com
產品特點
優異的等離子體控制系統，靈活兼容Thermal ALD和PEALD工藝
1
多區加熱系統確保反應溫度的均勻性和穩定性，實現低溫沉積均勻、優質的薄膜
2
精準制備TiO?、SiO?、Al?O?等光學薄膜，精準控制各層光學參數與厚度
3
AR產品：搭配后處理，可實現超低反射率<0.1%（可見光420~680nm波段）
4
高載片量：根據產品進行載具定制，提升效率與降低生產成本
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